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旋片真空泵在半导体工艺中的注意事项

旋片真空泵真空度本来就很高,一般的工艺需求是完全可以满足的,但如果针对半导体行业的话,它的真空度要求特别高,需要

配真空机组才可以达到,旋片真空泵一般用作反应系统的前级泵,它与罗茨真空泵共同组成罗茨旋片真空机组,旋片泵能在

60~100℃范围内把各种不同的混合气体压缩到大气压并排放到排气管中。如果泵内危害性产物的压力、浓度、温度都比较高,这

些物质在泵及泵的附件内积存起来;这些物质在排汽管道内同周围空气相接触等等,都会构成潜在的危险。    

半导体制造使用或产生的有害气体,必须采取合适的测量方法,以防止着火和爆炸,保证设备的正常运行,防止操作人员、维修

人员及服务人员发生急性或慢性中毒。为了安全起见,应配备抽力足够大的合适真空泵和附件,并要求采用合理的操作和维护方

法,配备适当的监控装置。

由于旋片真空泵在半导体制造设备中的重要作用,所以我们从旋片泵正常工作的几个条件入手,阐述一些安全工作的要素。这些

具体事项都会在以下的几篇文章中说明,请大家耐心等待!


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