常规选真空泵的办法是根据工艺过程需要的真空度选择泵的种类，根据放气量选择泵的抽速。而在真空电子技术领域里选择真空泵还应该考虑环境的清洁、工艺过程、反应气体的种类、反应产物的粒度等问题。以无油旋片真空泵的选择为例，如果反应生成物中含有颗粒，就不应该选用表面接触类型的泵，如活塞型或旋片式真空泵等。
在半导体生产和LCD制造过程中用到无油旋片真空泵的地方非常多。用于无反应气体抽出的场合有：上、下卸料室，转移室，液晶注入，Color Filter等，用于有反应气体抽出的场合有:离子注入，刻蚀，抛光，LPCVD, PECVD等。在CVD生产中要求无油真空泵抽出反应生成物和NF3，C2F6，ClF3，HCl等清洁气体。
